«

»

Тестовый доступ к сервису патентной аналитики Patseer ProX

С 24 февраля по 23 апреля 2026 года для Университета открыт тестовый доступ к сервису патентной аналитики Patseer ProX компании Patseer Technologies.

Порядок предоставления доступа:

  • Тестовый доступ к ресурсу предоставляется в соответствии с диапазоном IP-адресов Университета.
  • Ссылка на ресурс: https://rcniregister.patseer.com/
  • Срок доступа: c 24.02.2026 до 23.04.2026

 

Patseer ProX – платформенное решение для проведения исследований патентов с интегрированными аналитическими инструментами, использующая возможности искусственного интеллекта, разработанное индийской компанией PatSeer Technologies Pvt. Ltd.

База данных патентного поиска, содержит информацию о более чем 172 млн. патентных публикациях, включая 134 млн. полнотекстовых документов, полученных из 108 международных патентных ведомств, в том числе из РосПатента, Всемирной организации интеллектуальной собственности (ВОИС) и Европейской патентной организации. В базе данных содержится информация об изобретениях и полезных моделях, промышленных образцах, SEP-патентах, компаниях и судебных разбирательствах.

База включает в себя информацию не только о зарегистрированных патентах, но и о документы на стадиях от заявки до регистрации.

Для формирования поисковых запросов доступны инструменты с «тонкой настройкой фильтров», поиск в ручном «профессиональном режиме» и автоматический поиск с помощью ИИ.

Платформа позволяет настраивать варианты отображения патентной информации, сохранять и экспортировать результаты поиска, анализировать найденные документы с помощью диаграмм и графиков с использованием различных групп фильтров и слоев, в том числе с использованием ИИ, вести совместную работу над проектом для команд из 20 участников одновременно.

Большинство документов содержат аннотации на английском языке, полные тексты документов приводятся на языке оригинала.

Настройки платформы позволяют использовать интерфейс на русском языке.

Платформа Patseer ProX предназначена для широкого круга пользователей, включая профессиональных патентоведов, научных и научно-технических работников, сотрудников R&D-центров университетов и предприятий.

 

Информационные материалы для пользователей:

 

ВверхВверх